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纳米位移台完成定位后，在长时间定点保持工况下，台面会缓慢发生微小位移，也就是位置蠕变。即便控制器不再输出驱动信号，台面坐标仍会随时间持续偏移，导致长时间观测或者曝光加工过程中样品位置偏离目标区域，造成成像模糊、图形对位偏差，在需要长时间定点作业的微纳工艺中，该现象会直接影响结果的可靠性。
位置蠕变主要来源于压电陶瓷材料本身的迟滞特性。压电陶瓷在施加电压产生形变后，撤去电压或者电压固定不变时，晶体内部的极化状态不会瞬间稳定，会随时间发生缓慢的形变松弛，台面随之产生缓慢位移。保持时间越长，蠕变累积量越大，在需要数分钟乃至数十分钟定点保持的场景，位置偏移会达到不可忽略的程度。负载大小也会影响蠕变幅度，负载重量越大，压电陶瓷承受的机械应力越高，形变松弛效应会更加明显。
温度变化会进一步加剧蠕变效应。压电陶瓷的形变特性对温度十分敏感，环境温度小幅波动，会带来附加的热形变，叠加材料本身的蠕变，放大位置漂移。另外，位移台内部传动连接件、柔性铰链存在微小应力释放，在持续受力状态下，应力缓慢释放，也会带来缓慢的位置变化。不同品牌型号纳米位移台选用的压电陶瓷材料、柔性铰链加工工艺、闭环传感器响应参数各不相同，蠕变的速率和偏移量存在较大区别。
针对位置蠕变，可以采用预驱动的方式，在目标位置提前施加电压静置一段时间，等待形变趋于稳定后再开展实验；选用内置闭环反馈的位移台，依靠位置传感器实时监测并补偿位置偏移；控制环境温度，减少温度波动带来的附加形变。合理规划实验流程，缩短定点保持时长，也可以降低蠕变带来的定位误差，满足长时间精密定位的使用需求。