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压电陶瓷作为纳米位移台核心驱动元件，本身存在迟滞特性，是造成扫描非线性误差的主要来源。现象为正向扫描与反向扫描时，相同驱动电压对应的实际位移不一致，位移 – 电压曲线不重合，形成迟滞回线。在连续往复扫描、大范围位移扫描场景，迟滞效应会导致位置坐标失真，图形发生拉伸、压缩，影响扫描成像与纳米光刻的位置精度。
迟滞效应属于压电材料本身固有特性，迟滞量大小和扫描行程、扫描速度、驱动电压相关。行程越大、扫描速度越快，迟滞带来的偏差越显著。同时长时间持续加载、温度变化，也会改变迟滞曲线形态。不同品牌型号位移台选用的压电陶瓷材料、驱动控制算法存在区别，迟滞系数性能参数差异明显，部分型号搭载迟滞补偿算法，能够显著削弱该效应，基础型号无内置补偿时误差会更大。
针对压电迟滞，主流改善方案分为控制算法与工艺参数优化两类。优先使用带闭环位置反馈的位移台，依靠位置传感器实时采集实际位移，通过闭环修正抵消大部分迟滞误差。开环工况下，可启用控制器内置迟滞预补偿算法，提前修正驱动电压曲线，抵消位移滞后。实验层面适当降低扫描速率，给压电陶瓷足够响应时间，减小动态迟滞；控制环境温度稳定，减少温度漂移叠加在迟滞误差上。同时避免长时间满行程持续往复扫描，必要时提前做位移标定，建立电压 – 位移校正曲线。综合运用闭环控制与参数优化手段，可以有效抑制迟滞带来的非线性位移偏差，保证扫描轨迹的准确度。